하이닉스가 다음 달인, 내년 1월부터 이천 300mm라인 M10에서 48나노 낸드플래시의 양산을 시작한다고 한다.<하이닉스 48 나노 낸드플래시 세계 최초 양산 디지털타임스에서>

하이닉스의 국내 300mm 유일 팹인 M10 라인에서 48나노 낸드플래시가 양산된다면, 순조롭게 양산이 될 수 있다면, 하이닉스는 낸드플래시의 선두권으로 치고 올라갈 수 있는 기회를 잡을 수 있다. 삼성전자는 51나노이고, 도시바는 56나노 공정이라니 말이다.

그런데, 현재 M10은 D램과 낸드플래시 혼용 생산 팹이다. 여기에 48나노 미세공정도 혼용되는 셈이 된다. 생산라인에서 혼란이 없을까 하는 우려가 되는 것이다. 물론 잘 되면 좋겠지만 신규로 미세공정을 적용해서 수율을 안정화시키기 위해서는 시간이 걸리기 마련이다. 안 그래도 하이닉스는 66나노로의 미세공정 전환에서도 어려움을 겪은 바 있다. 그게 얼마되지 않았고, 지금도 진행형이라고 볼 수 있는데, 더 나아가 48나노 미세공정 전환작업이 추가되는 것이다.

무슨 반도체 생산이라는 것이 붕어빵을 찍어내는 단순한 작업도 아니고, 숙련된 공정전환 해당 인력도 한정될 수 밖에 없다고 본다면, 이번 하이닉스의 48나노 낸드플래시 양산계획은 거의 모험에 가까운 일이다.

경쟁사보다 앞서 간다는 것은 정말 폼나는 일이다. 그런데, 현재 문제를 제처두고 문제를 하나 더 만들어내는 것이 아닌지 걱정이 된다.

어찌 보면 하이닉스의 경영환경이 참으로 어려워서, 이를 극복해내기 위해서는 도 아니면 모라는 식이 아니면 안된다고 판단하고 있는지도 모르겠다. 얼마 안되는 시기에 하이닉스에 많은 변화가 일어났다. 물론 좋지 않은 변화가 연쇄적으로 꼬리를 물고 이어지고 있다.

그러나, 이번에는 48나노 미세공정 전환이 대성공으로 끝나서 포투만의 우려로 끝나기를, 기우였음을 하이닉스가 보여주었으면 하는 바램이다.

하이닉스의 가는 방향이 아슬아슬하다. 아무래도 제자리를 잡는 데 시간이 걸릴 듯하다.

         



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